此次,新帕泰克将继续参加6月2至4日在上海新博览中心举办的世界制药原料中国展(CPhI & ICSE China 2010),现场为广大客户展示从实验室至工业在线粒度控制技术,为解决美国FDA对医药生产提出的PAT(Process Analytical Technology)过程分析技术要求,提供的过程控制手段。
公司展位为E1C05,届时将携全自动干湿二合一激光粒度仪HELOS/OASIS(测试范围0.1-3500μm)、动态粒度粒形分析仪QICPIC(测试范围1-20000μm)、纳米激光粒度仪NANOPHOX(测试范围1-10000nm)、超声衰减粒度仪OPUS(0.01-3000μm),并有德国总部工程师与中国工程师在现场为您做的介绍与解答。
诚挚欢迎各界人士的莅临!
扫一扫,关注我们